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隨著科技的不斷進步,納米加工和表面改性在許多領(lǐng)域都變得越來越重要。在這些應(yīng)用中,LEICA三離子束切割儀因其高精度、高速度和高效率而得到廣泛應(yīng)用。本文將介紹三離子束切割儀在高通量實驗中的運用,以及其在納米加工和表面改性方面的優(yōu)勢。三離子束切...
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鍍膜儀是一款多功能型高真空鍍膜系統(tǒng),用于制備超薄,細顆粒的導電金屬膜和碳膜,以適用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的鍍膜要求。這一款全自動臺式鍍膜儀,包含內(nèi)置式無油真空系統(tǒng)、石英膜厚監(jiān)控系統(tǒng)和馬達驅(qū)動樣品臺。鍍膜儀常見的幾個真空鍍膜方式如下:1.磁控濺射鍍膜磁控濺射是一種常用的真空鍍膜技術(shù),它利用磁場將靶材料離子化并沉積在基底表面上。這種技術(shù)可用于制備金屬、合金、氧化物、硝化物等多種材料的薄膜。該技術(shù)具有高沉積速率、較好的均勻性和附著力等優(yōu)點。2.熱蒸發(fā)鍍膜熱蒸發(fā)是一...
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徠卡超薄切片機可以進行半薄和超薄切片,為光學顯微鏡,透射電子顯微鏡,掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡提供的切片。符合人體工程學的外觀設(shè)計,內(nèi)部精密機械設(shè)計,直觀的觸摸屏控制面板設(shè)計。超薄切片機控制面板是一種用于控制切片機的設(shè)備,其主要功能是調(diào)節(jié)切片機的運行參數(shù)和監(jiān)測機器狀態(tài)。通常由顯示屏、按鍵、旋鈕和指示燈等組成。其中,顯示屏用于顯示機器的運行狀態(tài)和參數(shù)設(shè)置;按鍵和旋鈕用于操作和調(diào)節(jié)機器的運行參數(shù);指示燈則用于提示用戶機器的工作狀態(tài)。一、控制面板的功能1.參數(shù)調(diào)節(jié)控制面板可以通過...
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液體導電膠一般由基體樹脂、導電填料、稀釋劑、交聯(lián)劑、催化劑和其他添加劑組成,是一種固化或干燥后具有一定導電性能和粘結(jié)性能的膠黏劑。其導電機理是通過基體樹脂的粘接作用把導電粒子結(jié)合在一起,形成導電通路,實現(xiàn)被粘材料的導電連接。相比傳統(tǒng)焊接,導電膠具有工藝簡單環(huán)保、低溫固化等特點,應(yīng)用潛力大。導電膠由聚合物基體和導電填料經(jīng)混合制備而成,主要通過導電填料來實現(xiàn)導電,它在實現(xiàn)導電過程中體現(xiàn)了以下兩種理論:1.穿流理論當導電填料的填充量達到一定量后,原本處于獨立分散狀態(tài)的金屬導電粒子開...
12-5
靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單的說,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料,用于高能激光器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產(chǎn)生不同的破壞效應(yīng)。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。將鐵磁性靶材的厚度減薄是解決磁控濺射鐵磁材料靶材的常見方法。如果鐵磁性靶材足夠薄,則其不能全屏蔽磁場,一部分磁通將靶材飽和,...
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超薄純碳膜不帶芳華膜,負載于微柵碳膜上,微柵碳膜孔洞上碳膜厚度小于3nm,是目前薄的碳支持膜。此超薄純碳膜非常適用于低對比度顆粒樣品做高分辨TEM。電子顯微鏡與光學顯微鏡的成像原理基本一樣,所不同的是前者用電子束作光源,用電磁場作透鏡。另外,由于電子束的穿透力很弱,因此用于電鏡的標本須制成厚度約50nm左右的超薄切片。這種切片需要用超薄切片機制作。電子顯微鏡的放大倍數(shù)高可達近百萬倍、由照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、記錄系統(tǒng)、電源系統(tǒng)構(gòu)成,如果細分的話,主體部分是電子透鏡和顯像...
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碳膜即碳支持膜,是透射電子顯微鏡(TEM)用來檢測樣品的專用載體,主要應(yīng)用于納米材料、生物材料等微觀物質(zhì)的表征,是常用的支持膜之一。當碳膜用在電阻領(lǐng)域時,電阻的類型較多,其外形、價格、性能差異較大,分別適用于不同的電路場合,不同材料的產(chǎn)品其性質(zhì)各有區(qū)別,我們來看看:1.碳膜電阻碳膜電阻(碳薄膜電阻)為早期也普遍使用的電阻器,利用真空噴涂技術(shù)在瓷棒上面噴涂一層碳膜,再將碳膜外層加工切割成螺旋紋狀,依照螺旋紋的多寡來定其電阻值,螺旋紋愈多時表示電阻值愈大。后在外層涂上環(huán)氧樹脂密封...
9-8
在利用掃描電鏡分析非導電樣品時,因為樣品的不導電性,會在樣品表面累積電離子,因此在成像過程中會產(chǎn)生大量的放電現(xiàn)象,嚴重影響圖像質(zhì)量。因此在觀察非導體時一般都要事先用鍍膜儀在試樣表面上蒸涂(沉積)一層重金屬導電膜,這樣既可以消除試樣荷電現(xiàn)象,又可以增加試樣表面導電導熱性,減少電子束造成的試樣(如高分子及生物試樣)損傷、提高二次電子發(fā)射率。鍍膜儀當接通高壓,陰極發(fā)射電子,電子能量增加到1-3kev,轟擊低真空中(3-10pA)的氣體,使其電離,激發(fā)出的電子在電場中被加速,繼續(xù)轟擊...
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