將鐵磁性靶材的厚度減薄是解決磁控濺射鐵磁材料靶材的常見方法。如果鐵磁性靶材足夠薄，則其不能全屏蔽磁場(chǎng)，一部分磁通將靶材飽和，其余的磁通將從靶材表面通過，達(dá)到磁控濺射的要求。這種方法的缺點(diǎn)是靶材的使用壽命過短，同時(shí)靶材的利用率很低。而且薄片靶材的另一個(gè)缺點(diǎn)是濺射工作時(shí)，靶材的熱變形嚴(yán)重，往往造成濺射很不均勻。

　　對(duì)鐵磁性靶材進(jìn)行改進(jìn)設(shè)計(jì)在靶材表面刻槽，槽的位置在濺射環(huán)兩側(cè)。這種設(shè)計(jì)的靶材適用于具有一般導(dǎo)磁率的鐵磁性靶材，例如鎳。但對(duì)具有高導(dǎo)磁率的靶材料效果較差。雖然靶材的這種改進(jìn)增加了靶材的成本，但這種措施無需對(duì)濺射陰極進(jìn)行改動(dòng)，能在一定程度上滿足濺射鐵磁性材料的需求。

　　增強(qiáng)濺射陰極磁場(chǎng)的另一種方法是采用高強(qiáng)磁體，通過強(qiáng)磁場(chǎng)飽和更厚的鐵磁性靶材得到靶材表面需要的濺射磁場(chǎng)強(qiáng)度。但是高強(qiáng)磁鐵的價(jià)格昂貴，同時(shí)采用這種方法增加靶材厚度的效果有限，而且由于強(qiáng)永磁體大小不能改變，這種方法會(huì)引起嚴(yán)重的等離子體磁聚現(xiàn)象。等離子體磁聚現(xiàn)象的產(chǎn)生使濺射區(qū)靶材很快消耗完而不能繼續(xù)濺射，從而造成靶材利用率很低。采用電磁線圈來產(chǎn)生高強(qiáng)磁場(chǎng)，通過調(diào)節(jié)電磁線圈的電流控制磁場(chǎng)大小來抑制等離子體磁聚。但這種方法的磁場(chǎng)裝置復(fù)雜而且成本高，同時(shí)電磁線圈還受到濺射陰極尺寸的限制，從而使電磁場(chǎng)的強(qiáng)度受到限制，導(dǎo)致鐵磁性靶材的厚度增加有限。

　　還可用永磁體與電磁體復(fù)合的方法解決等離子體磁聚的問題，在不同的濺射過程中調(diào)節(jié)電磁線圈，以產(chǎn)生大小合適的電磁場(chǎng)。