真空
鍍膜儀以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子炮擊材料外表，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數稱為濺射產額，產額越高濺射速度越快，以Cu，Au，Ag等高，Ti，Mo，Ta，W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電發(fā)生，在10-1-10 Pa真空度，在兩極間加高壓發(fā)生放電，正離子會炮擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。
真空鍍膜儀為何要進行定期的清洗？
鍍膜儀使用時間久了之后要定期進行清洗。在真空鍍膜儀使用鍍膜材料進行鍍膜之前，對鍍膜材料做簡單的表面清潔能延長鍍膜儀使用壽命，因為各種污染物不僅使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度，還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。
真空鍍膜儀的常見的污染物包括：
1.油脂（包括加工、裝配、操作的時候沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂等）；
2.操作時候的手汗，吹氣的時候的水汽和唾液等等；酸、堿、鹽類物質清洗時的殘余物質、手汗、水中的礦物質等；還有拋光殘渣及環(huán)境空氣中的塵埃和其它有機物。
清潔好這些污染物的目的是為了改進真空鍍膜儀的工作穩(wěn)定性，使鍍膜儀的工作可以更順利的進行。
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