真空鍍膜儀以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子炮擊材料外表，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數稱為濺射產額，產額越高濺射速度越快，以Cu，Au，Ag等高，Ti，Mo，Ta，W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子能夠直流輝光放電發(fā)生，在10-1-10 Pa真空度，在兩極間加高壓發(fā)生放電，正離子會炮擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。